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高纯氯化氢

高纯氯化氢
   电子级(VLSI)氯化氢产品生产装置于2003年投产,经北京市科委鉴定,主要用于半导体器件生产中单晶硅片的气相抛光、外延基座腐蚀及硬质合金制造。
   5.0N电子级(VLSI)氯化氢产品分别经国家标准物质研究中心和信息产业部专用材料质量监督检验中心抽样检验,纯度大于99.999%,总杂质含量小于5ppm,产品性能指标与国 际品牌相当。
   5.0N电子级(VLSI)氯化氢产品经国内外多家半导体重点企业连续大量在单晶硅片气相抛光和外延基座腐蚀工艺中广泛使用,制得的器件产品质量与国际知名品牌相当。超纯氯化氢产品生产装置于2005年投产,目前处于试销阶段,主要用作标准物质和科学研究。
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